四氟化碳

，又稱為四氟甲烷、Freon-14及R 14，是一種鹵代烴（化學(xué)式：CF4）。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無(wú)機(jī)化合物。

零下198 °C時(shí)，武漢四氟化碳具有單斜的結(jié)構(gòu)

，晶格常數(shù)為a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。

應(yīng)用，用途：
武漢四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應(yīng)用于硅、武漢二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。對(duì)于硅和二氧化硅體系，采用CF4-H2反應(yīng)離子刻蝕時(shí)，通過(guò)調(diào)節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時(shí)很有用。
在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)